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真空氣氛爐的結構介紹

2024年09月29日 18:54 來源:上海馬弗爐科技儀器有限公司
  真空氣氛爐是把真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術,真空熱處理所處的真空環境指的是低于個大氣壓的氣氛環境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。
  真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體(如氬)等各種氣氛。具有溫度控制準確,達到高溫度下材料的精準控制。氣氛控制自由,利用氣氛調控系統,可在爐內調整出符合不同材料的氣氛。無氧處理效果優異,可以避免加熱材料的氧化。批量加工效率高,一次可同時加工多個材料。
  真空氣氛爐通常由爐膛、加熱元件、保溫材料、真空泵組、氣體控制系統和溫度控制系統等部分組成。其中,爐膛用于容納待處理材料,加熱元件通常采用電阻加熱器,通過電能將爐腔加熱至所需溫度。真空泵組用于排除爐腔內的氣體,實現真空狀態。氣體控制系統用于控制爐腔內的氣氛環境,而溫度控制系統則用于監控和調節爐腔溫度。
  在使用時應嚴格按照操作規程進行操作,避免誤操作導致設備損壞或安全事故。確保設備處于良好的工作狀態,定期檢查和維護設備。

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